Специалисты НИИМЭ и НИИТМ, которые находятся в подмосковном Зеленограде, в интересах Минпромторга завершили разработку российских установок с плазмохимическим травлением и осаждением, рассчитанных на выпуск полупроводниковой продукции по 65-нанометровым технологическим нормам.
На данных установках можно производить обработку кремниевых пластин, имеющих диаметр 200 или 300 мм, с выполнением высокоточных операций, а их главной особенностью стало функционирование в вакуумной среде. Работы с чипами ведутся без какого-либо контакта с воздухом, что гарантирует отсутствие загрязнений, а также способствует выходу большего количества испрвных чипов.
Стоит заметить, что американский чипмейкер Intel освоил 65-нм еще в 2004 году и уже через два года начал серийное производство процессоров линеек Intel Pentium и Intel Core по передовой на тот момент технологии. Однако техпроцесс 65 нм и в настоящее время широко применяется для выпуска относительно простых полупроводниковых чипов.